.显影剂

   – 适用於3-5寸负光阻剂的显影剂

   – 适用於6-12寸正光阻剂的显影剂

   .定影剂

   – 适用於3-5寸负光阻剂的定影剂

   – 适用於6-12寸正光阻剂的定影剂

.纯度硫酸 (Sulfuric acid) 

产品用途

适用於半导体业

产品特征

纯度高

包装方式

瓶、1gal桶、55gal

产品等级

0.007max一样平常级、 工业、电子级、半导体级

 
.高纯度硝酸 (Nitric acid)

产品用途

适用於半导体业

产品特征

适用於半导体业 

包装方式

瓶、1gal桶、55gal

产品等级

一样平常级、 工业级、 电子级、半导体级

 
.高纯度双氧水(HIGH PURITY HYDROGEN PEROXIDE)

产品用途

适用於半导体业 用於晶圆、晶片之切割洗濯

产品特征

纯度高

包装方式

瓶、1gal桶、55gal

产品等级

一样平常级、 工业级、 电子级、半导体级




.高纯度氨水 (AMMONIUM HYDROXIDE)

产品用途

适用於半导体业

产品特征

纯度高

包装方式

瓶、1gal桶、55gal

产品等级

一样平常级、 工业级、 电子级、半导体级




.高纯度镀镍组

产品用途

适用於半导体业

产品特征

纯度高

产品因素 

柠檬酸铵(Ammonium citrate)

氯化镍(Nickel Chloride)

次亚磷酸钠(Sodium Hypophosphite)

氯化铵(Ammonium Chloride)